Subnano 輪廓儀

  NanoX-2000/3000系列、3D光學幹涉輪廓儀建立在移相幹涉測量(PSI)、白光垂直掃描幹涉測量(VSI)和單色光垂直掃描幹涉測量(CSI)等技術的基礎上，以其納米級測量準确度和重複性(穩定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、台階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。

  産品優勢

  美國矽谷研發的核心技術和系統軟件

  關鍵硬件采用美國、德國、日本等知名品牌

  PI納米移動平台及控制系統

  Nikon幹涉物鏡

  NI信号控制闆和Labview64 控制軟件

  TMC光學隔振台

  測量準确度重複性達到世界先進水平(中國計量科學研究院證書)